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产品介绍
Norcada 碳化硅膜為(wèi)電(diàn)子、X 射線(xiàn)和光學(xué)显微镜提供了坚固的导電(diàn)基板。SiC是一种具有(yǒu)高导热性和导電(diàn)性的导電(diàn)晶體(tǐ)材料，為(wèi)元素分(fēn)析提供了无氮环境。SiC膜可(kě)用(yòng)作原位電(diàn)化學(xué)和气體(tǐ)電(diàn)池的基板，以及薄膜外延生長(cháng)的基板。这些独特的膜还可(kě)以用(yòng)作X射線(xiàn)光學(xué)器件，光子晶體(tǐ)，量子谐振器和MEMS结构的基础。SiC 还可(kě)用(yòng)作 X 射線(xiàn)光學(xué)器件、X 射線(xiàn)束出入口窗口、探测器窗口和 X 射線(xiàn)终端站的透射窗口。请联系Norcada以获取有(yǒu)关SiC传输窗口的更多(duō)信息，因為(wèi)某些单元的设计和组成可(kě)能(néng)需要更改。
性能(néng)特点
- 用(yòng)于薄膜和生物(wù)材料的EDX元素分(fēn)析和X射線(xiàn)光谱的无氮底物(wù)
- 高导热性
- 低電(diàn)阻率硅框架，增加電(diàn)荷和散热
技术参数
- 产地：加拿(ná)大
- 厚度:50nm
- 薄膜尺寸：0.50×0.50mm
- 孔径：2.0µm
- 孔间距：3.0µm
- 是否进口：是
- 应用(yòng)：广泛
- 封装：厂家制定
- 性能(néng)：良好
- 可(kě)靠性：高
产品参数
